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第252章 一子解双征（第3页）

方卓笑了出来：“行，随时打我电话。”

刘宗宏听到这话，立即把老板的私人号码和易信都推给这位柴工。

方卓收起笑容，再看向新阳的掌门人王福翔，问道：“王总，你有什么要求？”

王福翔立即答道：“方总，都是为国内行业做事，我能有什么要求，无非就是希望咱们上下游都能多发展些，希望大家不要看别人的脸色，这次新阳侥幸有点成绩，我心里由衷的为易科和冰芯高兴，不管易科还是冰芯都是行业的领军者，只要你们好，咱们行业都能跟着好，我们新阳也就自然而然的好了。”

方卓微微点头，略一沉吟：“好，王总，这次要为你们请功。”

邱慈云平复了心情，对副总裁阎宗瑞说道：“阎总，我们这边要做好配合光刻胶优化的工作，良率每提升一个点都是好的，除此之外，接下来还要为10nm的优化做准备。”

包括柴庆良，众人的心里都是一凛，确实，工作还没结束。

方卓再次感谢王福翔与柴庆良，与他们紧紧握手之后亲自送他们出门，等到回到办公室，看到邱总正在大口大口的喝茶。

“可用，够用。”

方卓重新落座，双手掩面，声音从指缝里钻出来，“可用，够用，嘿！”

“对易科是够用了，对冰芯还需要很大的优化。”

邱慈云用椅背撑住身体，笑道，“但现在是够了，是吧？”

方卓往椅子上一靠，双手用力的在脸上搓动，全身的力气仿佛只够两个字的回答：“够了。”

这是水到渠成的水，迎刃而解的刃！

只要能有产能，还有什么不够的！

办公室里的四个人忽然都不出声，凌晨的寂静就蔓延了进来。

许久之后，方卓撑起来身子，说道：“16nm的光刻胶能解决，10nm的就能一以贯之了？”

“不错。”

邱慈云确认了这一点，“我们是用多重曝光技术，这可以在一定程度上避免大幅调整光刻胶的配方来适应更小的工艺节点。”

旁边的阎宗瑞补充道：“光刻胶在10nm还是需要进行一些工作的，因为需要承受额外的曝光和蚀刻，所以要求更高的耐受性和稳定性，而且，为了适应多重曝光更复杂的流程，还需要光刻胶更高的曝光剂量窗口和显影条件，用以保证重复性和良率。”